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专利名称：一种CVD镀膜设备的真空排气装置专利类型：实用新型专利发明人：因福明,沈杰
申请号：CN202021879696.7申请日：20200831公开号：CN213061016U公开日：20210427
摘要：本实用新型公开了一种CVD镀膜设备的真空排气装置，涉及真空排气技术领域，具体为一种CVD镀膜设备的真空排气装置，包括底座，所述底座的顶部固定连接有第一泵台，所述第一泵台的外部固定连接有折角导管。该CVD镀膜设备的真空排气装置，通过在底座的顶面固定连接第二泵台，并在第二泵台的外部固定连接压力导管和曲面导管，其在曲面导管的一端固定连接高压盖，利用高压盖将高压桶进行稳定压合，同时利用压力导管顶部的压力计的控制，能够保证了该装置可以将有害气体进行密闭保存，进而大大降低了气体存储的高压桶不能有效控制有害气体的问题。
申请人：昆山福钻新材料科技有限公司
地址：215300 江苏省苏州市昆山市周庄镇崇远路333号A2幢2楼211室
国籍：CN
代理机构：南京纵横知识产权代理有限公司
代理人：董成
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