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沟槽栅IGBT及沟槽栅IGBT制作方法[发明专利]

来源:保捱科技网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:沟槽栅IGBT及沟槽栅IGBT制作方法专利类型:发明专利

发明人:刘国友,朱利恒,黄建伟,谭灿健,罗海辉,杨鑫著申请号:CN201510960998.4申请日:20151221公开号:CN1068549A公开日:20170627

摘要:本发明提供一种沟槽栅IGBT及沟槽栅IGBT制作方法,其中,沟槽栅IGBT包括:衬底及位于衬底中的沟槽,沟槽上端露出衬底上表面,沟槽露出衬底上表面的部分被覆盖在衬底上表面的第一覆盖层覆盖,在相邻两个沟槽之间的衬底上设置有发射极区,发射极区及第一覆盖层均被第二覆盖层覆盖,沟槽未露出衬底的部分填满填充物,其中,第一覆盖层用于将第二覆盖层与填充物隔离。本发明可在不减小发射极金属与发射极区接触面积的前提下,通过减小沟槽间距以改善沟槽栅IGBT导通特性。

申请人:株洲南车时代电气股份有限公司

地址:412001 湖南省株洲市石峰区时代路169号

国籍:CN

代理机构:北京聿宏知识产权代理有限公司

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