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专利名称：保护膜形成膜、保护膜形成用片及检查方法专利类型：发明专利
发明人：佐伯尚哉,山本大辅,米山裕之,高野健申请号：CN2020102822.2申请日：20140130公开号：CN1116135A公开日：20200901
摘要：本发明涉及一种保护膜形成用片(2)，其具备保护膜形成膜(1)、和叠层于该保护膜形成膜的一面或两面的剥离片(21)，所述保护膜形成膜(1)的特征在于，其在波长1600nm的透光率为25％以上、在波长550nm的透光率为20％以下。根据该保护膜形成用片(2)，能够形成可实现对在工件或对该工件进行加工而得到的加工物上存在的裂纹等的检查、并且可使工件或加工物上存在的磨痕不被肉眼识别到的保护膜。
申请人：琳得科株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京市柳沈律师事务所
代理人：王利波
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